知元团队刘元霞、聂稻波受无效请求人委托，代理4W109596号无效宣告请求，并成功宣告专利权全部无效。

2020年6月4日，国家知识产权局专利局专利复审和无效审理部作出第44685号无效宣告请求审查决定，宣告专利号ZL200510128683.X号、名称为“制造减少条纹的化学机械抛光垫的设备”的发明专利权全部无效。
 
化学机械平面化处理，即化学机械抛光(CMP)，是用来对半导体晶片之类的基材进行平面化处理的常用技术。在常规的CMP中，晶片安装在支架装置上，并使晶片与CMP设备中的抛光垫接触。所述支架装置对晶片提供可控的压力，将晶片压在抛光垫上。通过抛光垫表面和浆液的化学作用和机械作用，使晶片的表面抛光变平。用通常方法形成的抛光垫可能具有不希望有的条纹。

涉案专利提供了一种制造化学机械抛光垫的设备，能够制造得到具有减少的条纹的抛光垫。

涉案专利的设备包括：装有聚合物材料的容器；装有微球体的储料斗；装有固化剂的固化剂储存容器；用来形成聚合物材料和微球体的预混合物的预混合物制备容器；处于所述预混合物制备容器内的循环回路，用来对所述预混合物进行循环，直至达到所需堆积密度；用来储存预混合物的预混合物收集器；用来形成预混合物与固化剂的混合物的混合器；以及用来模制所述混合物的模子。
该方案主要通过设置“处于所述预混合物制备容器内的循环回路”来实现聚合物材料中微球的均匀分布，从而有效控制其堆积密度，减少浓度分层的技术效果，最终达到减少抛光垫的条纹的技术目标。

其对应的示意图如下：

（涉案专利附图3）
 

证据2公开了如下图所示的内容：
 

（证据2的实施例1所采用的装置示意图）
 

因此权利要求1所要求保护的技术方案与证据2公开的内容相比，区别在于：（1）装有聚合物材料的容器、装有微球体的储料斗；（2）处于所述预混合物制备容器内的循环回路，用来对所述预混合物进行循环，直到达到所需堆积密度。

案件审理过程中，双方争辩焦点主要在于上述区别特征（2），具体包括：证据2未明确原料混合均匀与抛光垫条纹减少之间的内在联系；证据5中循环回路设置在原料储存罐上，是否容易想到将该循环回路应用于本专利并设置在预混合物制备容器内？

无效决定认为，对于专利权人主张“将微球均匀分散可以解决抛光垫中微球堆积密度差异的问题”，证据2说明书第1栏第58行至第2栏第14行记载的内容表明了，“由于微球体与预聚物本身固有的物理属性，导致两者在混合时会出现彼此分离，微球体在预聚物中分散性差的现象，而该现象直接导致微球体在聚氨酯固化之前无法均匀分散，从而无法获得均匀分散的抛光垫”。同时证据8记载的内容也表明“对于以聚氨酯和微球体为原料的抛光垫而言，由于微球体的分散状态不稳定会导致抛光垫上部与下部之间产生密度差，进而影响抛光垫的性能”。即，证据8与证据2公开的上述内容给出了关于抛光垫条纹问题的足够的技术启示。同时，证据5给出了将发泡性氨基甲酸酯原液循环，可以防止由二氧化硅胶体粒子沉降引起的分散不均匀问题。对于专利权人主张证据5的循环回路设置在原料罐上的这一主张，无效决定认为，从证据5中可以获得如下启示，即在制备含有固体颗粒的混合液时，由于固体和液体之间的密度差异，会造成固体颗粒无法均匀分散在该混合液中，这属于物理学上的混合，而为了解决上述问题，可以通过增设循环回路从而实现对该混合液的循环回流，进而使固体颗粒均匀分散在液体中。因此证据5给出了解决上述无法均匀分散的物理手段。

知元认为，该案有如下经验值得分享：（1）对于涉案专利保护的设备，当面临没有详细披露设备信息、通过设备等检索途径没有检索到合适现有技术时，如何调整检索方案获得最接近的现有技术，这是本案能够找到最接近的现有技术并获得成功的关键因素；（2）对于现有技术公开的方法特征，如何采用可视化的方式将其与设备特征对应，从而方便庭审进行，这是本案中的有效尝试；（3）本案再次确认了这样一个原则：在创造性的“三步法”判断中，如果区别技术特征及其所起的作用已经在现有技术中公开，则权利要求不具备创造性。

刘元霞                                                               聂稻波